Atotech, proveedor referente mundial en especialidades químicas de soluciones para el acabado de superficies, anunció el lanzamiento mundial de su innovador proceso súper brillante de níquel químico de medio contenido en fósforo, Nichem MP 400. Se trata, según el especialista en recubrimientos, de un proceso sostenible y sin riesgos, capaz de metalizar recubrimientos de NiP con valores de brillo muy altos que van desde 300 a 600 GU.
Estas propiedades se logran sin la peligrosa inclusión de los elementos cadmio y plomo, lo que hace que el proceso de níquel químico cumpla con ELV, RoHS y WEEE. Según Atotech, Nichem MP 400 satisface las más altas demandas de calidad de producción y proporciona la flexibilidad necesaria para adaptarse a una amplia gama de superficies y múltiples sustratos dentro de un solo proceso. Representa una solución adecuada para una amplia variedad de aplicaciones en electrónica de consumo, aplicaciones de industria de automoción, electrodomésticos, conectores y muebles que requieren depósitos de níquel no electrolítico muy brillantes.
Desde Atotech explican que este producto exhibe una excelente estabilidad de baño y una protección satisfactoria contra la corrosión. El proceso está formulado para tolerar bajas cargas en el baño (0,1 dm² / l). Además, muestra una buena capacidad de autoiniciación en cobre y aleaciones de cobre. También proporciona una excelente adherencia sobre aleaciones de aluminio previo cincato, lo que lo convierte en un proceso versátil para procesar una amplia variedad de sustratos.
“Las exhaustivas pruebas de campo con clientes, confirman que el proceso proporciona un brillo constante y una apariencia uniforme a lo largo de la vida útil del baño”, ha declarado Shakeel Akhtar, Global Product and Business Development Manager de recubrimientos resistentes al desgaste en Atotech. Con Nichem MP 400, Atotech ha desarrollado un proceso ecológico, que está formulado sin metales pesados tóxicos, ni EDTA ni ácido bórico. El proceso ofrece recubrimientos de níquel-fósforo con un contenido de fósforo entre el 7 y el 9%, lo que da como resultado una dureza comparable a la de un proceso electrolíticos en el rango 550-650 HV0.1.
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